應用設備製程：目前廣汎使用於半導體CVD設備
仕樣：
分解能 0.036°
精度 ±0.1°
潔淨度 Class 1
對應規格6" ~ 8" Wafer
供給源 AC100V 5A 真空400mmHg以上

維修交期 2~3週
保固6個月

維修流程