應用設備製程：目前廣汎使用於半導體CVD設備

仕樣：

分解能 0.036°

精度 ±0.1°

潔淨度 Class 1

對應規格6" ~ 8" Wafer

供給源 AC100V 5A 真空400mmHg以上

維修交期 2~3週

保固6個月